Optisches Laserlithographiesystem zur Nanostrukturierung
Optisches Laserlithographiesystem zur Nanostrukturierung
用于纳米结构的光学激光光刻系统
批准号：
271377967
负责人：
金额：
$0.0万
依托单位：
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2015
资助国家：
德国
项目状态：
未结题
起止时间：
2014-12-31 至 --
中文摘要
翻译
2014年1月至2014年1月，苏萨门市理工学院和明森贝格教授与格雷夫斯瓦尔德大学理工学院和专业学院合作。Strukturierung von Hallbar für Topologische Isolatoren，Strukturierung Magnon ischer Kristalle(Mehrkomponentig)，柔韧Nutzung für光刻与医药工程(Strukturierung für Mikrometersänelementen and Pharmazie，Strukturierung für Mikrodikanäkanäle)。在DER BANTRANGTEN版本中，Können Relativ groçe FläChen in Kurzer Zeit geschrieben被删除。在150纳米以下。
英文摘要
Die Anschaffung des Lithographiesystem steht im Zusammenhang mit der Neuberufung von Prof. Münzenberg im Januar 2014 an das Institut für Physik der Universität Greifswald und dient zur Erstausstattung der Professur. Das Nanolithographiesystem soll in folgenden Projekten eingesetzt werden: Nanostrukturierung von Tunnelelementen und Bondpads, Strukturierung von Hallbars für Topologische Isolatoren, Strukturierung magnonischer Kristalle (mehrkomponentig), flexible Nutzung für Lithographieprojekte in Kooperationen, z.B. Medizin und Pharmazie (Strukturierung für Mikrometersäulen als Zelluntergrund, Mikrofluidikkanäle) und Lithographieservice Institut für Physik und Institut für Niedertemperaturplasmaphysik. In der beantragten Version können relativ große Flächen in kurzer Zeit geschrieben werden. Die Auflösung liegt unter 150 nm.
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