Precise control of nanoparticle deposition using plasma
Precise control of nanoparticle deposition using plasma
批准号:
26246036
负责人:
Shiratani Masaharu
金额:
$26.46万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2019-03-31
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Si Nanoparticles Fabricated by Multi-hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition and their Photovoltaic Application
多空心放电等离子体化学气相沉积法制备纳米硅粒子及其光伏应用
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[D. Sakamoto, H. Chou, S. Tanami, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani]
通讯作者:
M. Shiratani
Cloud of a-Si:H Clusters as Selective Filter in SiH4 Multi-Hollow Discharge Plasma
a-Si:H 团簇云作为 SiH4 多空心放电等离子体中的选择性过滤器
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Kojima, K. Tanaka, S. Nagaishi, H. Hara, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani]
通讯作者:
M. Shiratani
反応性プラズマとナノ粒子の相互作用ゆらぎのクロスコリレーション解析区間の比較
反应等离子体与纳米颗粒相互作用波动互相关分析区间的比较
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[周靭, 森研人, 大友洋, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治]
通讯作者:
白谷正治
Interaction potential fluctuation between binary collisions of fine particles suspended in low pressure Ar rf plasmas
低压Ar射频等离子体中悬浮细颗粒二元碰撞之间的相互作用势波动
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[M. Soejima, H. Ohtomo, K. Mori, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani]
通讯作者:
M. Shiratani
Effects of electrostatic field direction on dust accumulation to mirror in a plasma reactor
静电场方向对等离子体反应器中镜子灰尘积累的影响
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[R. Katayama, T. Fang, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Masuzaki, N. Ashikawa, M. Tokitani, K. Nishimura, A. Sagara]
通讯作者:
A. Sagara
共 201 条
Anisotropic plasma CVD using pressure-controlled micro plasmas
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批准号:16K13922
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.33万
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财政年份:2016
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负责人:Shiratani Masaharu
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依托单位:
Novel nanoparticle detection method using compact drift tube
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批准号:26600126
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2014
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负责人:Shiratani Masaharu
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依托单位:
海外基金