Cluster-Multilayers

这是一个很好的方法，多金属络合物体系具有配位稳定性，并且不容易吸收材料。Hierzu sollen abwechselnd Cluster- und Trennschichten erzeugt韦尔登.在第一个55或更大的原子团簇中，量子尺寸效应是韦尔登概念的核心。在传统的阻挡层中，氧化物如SiO2或TiO 2被韦尔登覆盖，而在阻挡层上的等离子体阻尼过程中，薄膜被韦尔登覆盖。Dieses relativ aufwendige Verfahren ist erforderlich，um die nötige Qualität der Barriereschichten zu gewährleisten und um über eine möglichst greße Variabilität bezüglich der verwendeten Materialien zu verfügen.在这一点上，我们可以看到，在这一点上，我们可以看到一些小的变化。Einfachere Verfahren，z. B。通过对聚合物的研究，我们发现它是一种非聚合物。该簇溶解于具有功能的Oberflächen化学固定韦尔登。这是个错误。该等离子体阻尼器可在埃森的一个工厂中使用，功能样机可在韦尔登上运行。Zweck der Herstellung der Escher-Mehrfachschicht-Systeme ist deren Untersuchung bezüglich ihres lateralen und vertikalen Leitfähigkeitsverhaltens.该屏障的材料也是韦尔登的材料。

Es ist beabsichtigt, Cluster-Multischicht-Systeme aus ligandstabilisierten Metallclustern und nicht- oder halbleitenden Materialien aufzubauen. Hierzu sollen abwechselnd Cluster- und Trennschichten erzeugt werden. Bei den Clustern ist in erster Linie an Au55 - oder ähnlich große Cluster gedacht, an denen Quantum-Size-Effekte bereits mehrfach nachgewiesen werden konnten. Als trennende Barriereschichten sollen vorwiegend Oxide wie SiO2 oder TiO2 verwendet werden, die mittels eines Plasmaverdampfungsprozesses auf den Clusterschichten als dünne, glatte Filme niedergeschlagen werden sollen. Dieses relativ aufwendige Verfahren ist erforderlich, um die nötige Qualität der Barriereschichten zu gewährleisten und um über eine möglichst große Variabilität bezüglich der verwendeten Materialien zu verfügen. Insbesondere sind Oberflächen erforderlich, deren Rauhigkeit kleiner als die Clustergröße ist. Einfachere Verfahren, z. B. durch Verwendung von Polymerschichten, haben sich als untauglich erwiesen. Die Cluster sollen auf den zuvor funktionalisierten Oberflächen chemisch fixiert werden. Diese Verfahren sind bereits erprobt. Die Plasmaverdampfungsanlage soll überwiegend aus kommerziell erhältlichen Bauteilen nach einem in Essen vorhandenen, funktionierenden Prototyp aufgebaut werden. Zweck der Herstellung der Cluster-Mehrfachschicht-Systeme ist deren Untersuchung bezüglich ihres lateralen und vertikalen Leitfähigkeitsverhaltens. Die Barriereschichten zwischen den Clusterlagen sollen sowohl bezüglich des Materials als auch der Schichtdicke den Bedürfnissen angepaßt werden.