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Dynamische in situ-Untersuchung der Entstehung von kompressiven Spannungen in Bornitrid-Schichten und des Einflusses von Verunreinigungen und Wachstumsparametern

Dynamische in situ-Untersuchung der Entstehung von kompressiven Spannungen in Bornitrid-Schichten und des Einflusses von Verunreinigungen und Wachstumsparametern
动态原位研究氮化硼层中压应力的发展以及杂质和生长参数的影响
批准号:
5214248
负责人:
Dr. Wolfgang Fukarek
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1999
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1998-12-31 至 2003-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Ziel des beantragten Vorhabens is die Reduzierung der intrinsischen kompressiven Spannungen in Schichten aus kubischem Bornitrid(c-BN).这是由于机械制造商错误韦尔登的操作造成的。利用椭圆偏振法和红外光谱法对BN-Schicht沉积物进行动态相态分析,对沉积物的动态相态参数进行动态相态分析。本文采用Hinblick方法对c-BN与h-BN的相互作用进行了参数化研究,并对BN-Schichten韦尔登进行了离体的Hinsichtlich Zusammensetzung(Rutherford Backscattering Spectroscopy- RBS,Elastic Recoil Detection - ERD)和结构分析(HRTEM,Generalized Ellipsometry - GE)。通过离子束屏蔽(IBAD)的作用,使BN-屏蔽层在高压(HV-)床层中的O、Fe、W、Ar等元素的浓度降低。通过磁控溅射法和原位法对超高压(UHV)真空下的韦尔登进行了内部扫描和BN相培养分析。
英文摘要
Ziel des beantragten Vorhabens ist die Reduzierung der intrinsischen kompressiven Spannungen in Schichten aus kubischem Bornitrid (c-BN). Dieses Ziel soll durch die Verbesserung des Verständnisses der zu den Spannungen führenden Mechanismen erreicht werden. Durch die simultane dynamische in-situ-Messung der Spannungen (tiefenaufgelöst) in Kombination mit in-situ-Ellipsometrie und die dynamische Phasenanalyse der aufwachsenden BN-Schicht mit in-situ-IR-Spektroskopie wird der Einfluß von Änderungen der Depositions-Parameter auf die Spannung und die Phasenbildung dynamisch analysiert. Hierbei wird insbesondere die Parametergrenze für den Übergang von c-BN nach h-BN mit Hinblick auf die Minimierung der intrinsischen Spannungen untersucht.Die abgeschiedenen BN-Schichten werden ex-situ hinsichtlich ihrer Zusammensetzung (mit Rutherford Backscattering Spectroskopy - RBS, Elastic Recoil Detection - ERD) und Struktur (HRTEM, Generalized Ellipsometry - GE) analysiert. Der Einfluß der Konzentration der natürlichen Verunreinigungen (O, Fe, W, Ar) in den unter Hochvakuum-(HV-)Bedingungen mit Hilfe der ionenstrahlgestützten Schichtabscheidung (IBAD) hergestellten BN-Schichten auf die Spannungen wird untersucht. Hierzu werden Schichten unter Ultrahochvakuum-(UHV-)Bedingungen durch Magnetron-Sputtern hergestellt und in-situ die inneren Spannungen und die BN-Phasenbildung analysiert.
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