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Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen

Aufeinander abgestimmte intramolekular adduktstabilisierte Alkoxid- und Amid-Prekursoren für MOCVD von oxidischen ferroelektrischen Schichtstrukturen
用于氧化物铁电层结构 MOCVD 的匹配分子内加合物稳定的醇盐和酰胺前体
批准号:
5313770
负责人:
Professorin Dr. Anjana Devi
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Priority Programmes
财政年份:
2001
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2000-12-31 至 2007-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
<s:1> nne Schichten aus sehr verschiedenen materials and mit verschiedenter microstrukturr, die von epitaktischen; der verschieden texturierte多晶Schichten bis zu amorphen film reicht, werden fre复合物struckturen and Bauelemente benötigt。研究了钡-锶-钛(BST)、锆-钛(PZT)及其它材料的氧化特性。die beinhaltet die Untersuchung von nucleation and Wachstum, der konformen Abscheidung and der heterostructuren。在<s:1>模具定义器,运动控制器(MOCVD)的总体设计中包含单个前驱体的总体设计。前体化学研究中心(Sicht msssen daher Fragen der Reinheit, der flilchtigkeit, der Langzeitstabilität, des Aggregationsverhaltens sowie der Reaktivität和Zersetzungskinetik beantwortet werden)。Aufgrund der Komplexität des Problemfeldes, speziell bei der kombinierten Abscheidung, solsolm Precursordesign von bekannten Leitstrukturen ausgegangen werden, die in intelligent wise systematisch variverden sollen。大贝斯特在组合个体前兆下的优化。北京设计与设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计与工程设计学院设计
英文摘要
Dünne Schichten aus sehr verschiedenen Materialien und mit verschiedenster Mikrostruktur, die von epitaktischen über verschieden texturierte polykristalline Schichten bis zu amorphen Filmen reicht, werden für komplexe Strukturen und Bauelemente benötigt. Im Rahmen des vorgeschlagenen Projektes sollen oxidische ferroelektrische Schichten aus Barium-Strontium-Titanat (BST), Blei-Zirkonat-Titanat (PZT) und anderen Materialien untersucht werden. Dies beinhaltet die Untersuchung von Nukleation und Wachstum, der konformen Abscheidung und der Heterostrukturen. Für die definierte, kinetisch kontrollierte MOCVD ist dabei das abgestimmte Design der individuellen Precursoren hinsichtlich des Zerfallsverhaltens besonders wichtig. Aus precursorchemischer Sicht müssen daher Fragen der Reinheit, der Flüchtigkeit, der Langzeitstabilität, des Aggregationsverhaltens sowie der Reaktivität und Zersetzungskinetik beantwortet werden. Aufgrund der Komplexität des Problemfeldes, speziell bei der kombinierten Abscheidung, soll beim Precursordesign von bekannten Leitstrukturen ausgegangen werden, die in intelligenter Weise systematisch variiert werden sollen. Dabei ist die Optimierung der Kombination individueller Precursoren das Hauptanliegen. Beim Design der Precursoren soll ganz bewußt auf das Konzept donorfunktionalisierter und im sterischen Anspruch variabel einstellbarer Alkoxidliganden zurückgegriffen werden, um möglichst einheitliche Systeme für alle Metallkomponenten hinsichtlich Struktur und Reaktivität zu erhalten.
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会议论文
Ultra-thin metal layers by plasma-assisted spatial atomic layer deposition at atmospheric pressure
  • 批准号:
    417279094
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2019
  • 负责人:
    Professorin Dr. Anjana Devi
  • 依托单位:
Atomic layer deposition (ALD) of complex oxide thin films for integration into semiconductor devices: Precursor engineering and process optimization
  • 批准号:
    149935315
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2009
  • 负责人:
    Professorin Dr. Anjana Devi
  • 依托单位:
New spatial atomic layer deposition precursors and plasma processes towards functional materials for advanced applications
  • 批准号:
    490773082
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    --
  • 负责人:
    Professorin Dr. Anjana Devi
  • 依托单位:
Hybrid Memristive Device with Multilevel-Modulated Electrical Conductance of Interfaced Atomically Thin 2D Materials and Molecular Oxides (2DPOMristor)
海外基金