Low-k dielectric, porous polymers for integrated circuits

Ziel de Projektes ist die synthesis and Charakterisierung neutiger， poröser低k高分子材料材料系统在der microelektronik的合成与表征，Kompatibilität de Materials mit der prozestech。模具工艺学与材料学的研究与应用。【参考翻译】【参考翻译】【参考翻译】【参考翻译】【参考翻译】【参考翻译】【参考翻译】Mit der erzeeugung poröser聚合物学家die Erwartung和eehöhere机理Stabilität begleicher Dielektrizitätskonstante ivergleich zu anorganischen porösen Schichten verbunden， ddie聚氰脲酸酯berits in k k von ca. 2,7也块体材料besiten。1 . Die umfangreiche Charakterisierung des porösen Schichtmaterials bezbezgelich ich seiner chemistry, Eigenschaften bildet Die Grundlage f<e:1>, Die Optimierung des precursor und des abscheideproesses（自旋- verfahren）。[3] [3] [3] [1] [2] [2] [1] [2] [1] [2]特种材料（特种材料）；新型材料（特种材料）；[2] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1] [1]beerfolgreichem Projektabschluss ist die weitere Optimierung der porösen Polymere and die grundlegende Untersuchung der Kompatibilität zueiner Kupfermetallisierung in einer zweiten Phase des Gesamtvorhabens geplant。Ein vordergrindiges Anliegen dieses interdisziplinär ausgerichteten Projektes ist die verindung von material- and ingenieurwissenschaftlichen Kompetenzen der Partner mit Ziel der applied neuer, leistungsfähigerer Materialien in der microelektronik。

Ziel des Projektes ist die Synthese und Charakterisierung neuartiger, poröser low-k Polymermaterialien für Metallisierungssysteme in der Mikroelektronik sowie die Untersuchung der Kompatibilität des Materials mit der Prozesstechnologie. Die Entwicklung von Prozess und Material muss dabei aufeinander abgestimmt, iterativ erfolgen. Als Ausgangsbasis für die Erzeugung poröser Polymere dienen Polycyanurate, deren Eigenschaften vielversprechend sind und zu deren Herstellung und Charakterisierung umfangreiche Erfahrungen an der BTU bestehen. Mit der Erzeugung poröser Polymere ist die Erwartung an eine höhere mechanische Stabilität bei gleicher Dielektrizitätskonstante im Vergleich zu anorganischen porösen Schichten verbunden, da die Polycyanurate bereits ein k von ca. 2,7 als Bulk-Material besitzen. Die umfangreiche Charakterisierung des porösen Schichtmaterials bezüglich seiner chemischen, elektrischen und mechanischen Eigenschaften bildet die Grundlage für die Optimierung des Precursors und des Abscheideprozesses (Spin-on-Verfahren). Zur Erzeugung von Leitbahnsystemen erforderliche Prozesse werden an den entwickelten porösen Dielektrika erprobt bzw. speziell für diese neuartigen Materialien adaptiert oder entwickelt. Die Bewertung dieser Untersuchungen liefert in Kombination mit den Schichtcharakteristika und dem entwickelten Abscheideprozess eine Machbarkeitsstudie zur Einsetzbarkeit dieser porösen Polymere in Metallisierungen der Mikroelektronik. Bei erfolgreichem Projektabschluss ist die weitere Optimierung der porösen Polymere und die grundlegende Untersuchung der Kompatibilität zu einer Kupfermetallisierung in einer zweiten Phase des Gesamtvorhabens geplant. Ein vordergründiges Anliegen dieses interdisziplinär ausgerichteten Projektes ist die Verbindung von material- und ingenieurwissenschaftlichen Kompetenzen der Partner mit dem Ziel der Applikation neuer, leistungsfähigerer Materialien in der Mikroelektronik.