T.Ito: "Non-destructive and Quantitative Analysis of Buried Interfaces of Si-Related Crystalline Multilayers Using High-Energy Ion Scattering" Appl.Surf.Sci.(1992)
T.Ito: "Non-destructive and Quantitative Analysis of Buried Interfaces of Si-Related Crystalline Multilayers Using High-Energy Ion Scattering" Appl.Surf.Sci.(1992)
复制标题
T.Ito:“利用高能离子散射对硅相关晶体多层的埋入界面进行无损定量分析”Appl.Surf.Sci.(1992)
DOI:
--
复制
发表时间:
--
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
登录
查看更多内容
影响因子:
6.7
作者:
T. Yasumatsu;Tsuyohito Ito;H. Nishizawa;A. Hiraki
通讯作者:
A. Hiraki
影响因子:
6.7
作者:
Tsuyohito Ito;T. Yasumatsu;A. Hiraki
通讯作者:
A. Hiraki
影响因子:
1.5
作者:
T. Ito
通讯作者:
T. Ito
影响因子:
1.9
作者:
T. Ito;W. Gibson
通讯作者:
W. Gibson