Impact of interface recombination on direct-gap photoluminescence from Ge epitaxial layers on Si

Impact of interface recombination on direct-gap photoluminescence from Ge epitaxial layers on Si
复制标题

界面复合对 Si 上 Ge 外延层直接带隙光致发光的影响

DOI:
10.7567/1347-4065/aafd96
复制
发表时间:
2019
影响因子:
1.5
通讯作者:
Ishikawa Yasuhiko
Ishikawa Yasuhiko
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者:
Yako Motoki;Higashitarumizu Naoki;Ishikawa Yasuhiko

文献摘要

参考文献

相似文献

后生长退火后台面形状对Si上Ge外延层螺纹位错密度的影响
DOI: 10.1143/jjap.49.04dg23
发表时间: 2010
影响因子: 1.5
作者:
Y. Takada;J. Osaka;Y. Ishikawa;K. Wada
通讯作者: K. Wada
Si 上 Ge 层中的超载流子寿命
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者:
R. Geiger;J. Frigerio;M. Süess;D. Chrastina;G. Isella;Ralph Spolenak;Jérôme Faist;H. Sigg
通讯作者: H. Sigg
使用泵浦探针光谱提取 Ge 波导中的载流子寿命
DOI: 10.1063/1.4952432
发表时间: 2016
影响因子: 4
作者:
S. Srinivasan;M. Pantouvaki;P. Verheyen;G. Lepage;P. Absil;J. Campenhout;D. Thourhout
通讯作者: D. Thourhout
P 扩散制成的反向肋 n Ge 腔的低阈值发光
DOI: 10.1149/07508.0193ecst
发表时间: 2016
期刊: --
影响因子: --
作者:
M. Yako;Chan;D. Ahn;Y. Ishikawa;K. Wada
通讯作者: K. Wada
生长后快速循环退火后,Si 上硅覆盖的 n-Ge 外延层增强的直接间隙光发射:非辐射界面复合对 Ge/Si 双异质结构激光器的影响。
DOI: 10.1364/oe.25.021286
发表时间: 2017
期刊: Optics express
影响因子: 3.8
作者:
N. Higashitarumizu;Y. Ishikawa
通讯作者: Y. Ishikawa