Impact of interface recombination on direct-gap photoluminescence from Ge epitaxial layers on Si
Impact of interface recombination on direct-gap photoluminescence from Ge epitaxial layers on Si
复制标题
界面复合对 Si 上 Ge 外延层直接带隙光致发光的影响
DOI:
10.7567/1347-4065/aafd96
复制
发表时间:
2019
影响因子:
1.5
通讯作者:
Ishikawa Yasuhiko
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Yako Motoki;Higashitarumizu Naoki;Ishikawa Yasuhiko
登录
查看更多内容
影响因子:
1.5
作者:
Y. Takada;J. Osaka;Y. Ishikawa;K. Wada
通讯作者:
K. Wada
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
R. Geiger;J. Frigerio;M. Süess;D. Chrastina;G. Isella;Ralph Spolenak;Jérôme Faist;H. Sigg
通讯作者:
H. Sigg
影响因子:
4
作者:
S. Srinivasan;M. Pantouvaki;P. Verheyen;G. Lepage;P. Absil;J. Campenhout;D. Thourhout
通讯作者:
D. Thourhout
DOI:
10.1149/07508.0193ecst
发表时间:
2016
期刊:
--
影响因子:
--
作者:
M. Yako;Chan;D. Ahn;Y. Ishikawa;K. Wada
通讯作者:
K. Wada
影响因子:
3.8
作者:
N. Higashitarumizu;Y. Ishikawa
通讯作者:
Y. Ishikawa