3D atomic imaging of SiGe system by X-ray fluorescence holography

3D atomic imaging of SiGe system by X-ray fluorescence holography
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X 射线荧光全息技术对 SiGe 系统进行 3D 原子成像

DOI:
--
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发表时间:
2003
期刊:
J. Materials Science : Materials in Electronics 14
影响因子:
--
通讯作者:
K.Nakajima et al.
K.Nakajima et al.
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
K.Hayashi;Y.Takahashi;E.Matsubara;K.Nakajima et al.

文献摘要

参考文献

被引文献

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