Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation
Dependence of dose rate on the sensitivity of the resist under ultra-high flux extreme ultraviolet (EUV) pulse irradiation
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超高通量极紫外 (EUV) 脉冲照射下剂量率对光刻胶灵敏度的依赖性
DOI：
10.35848/1882-0786/abfca3
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发表时间：
2021
影响因子：
2.3
通讯作者：
Kozawa Takahiro
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Okamoto Kazumasa;Kawai Shunpei;Ikari Yuta;Hori Shigeo;Konda Akihiro;Ueno Koki;Arai Yohei;Ishino Masahiko;Thanhhung Dinh;Nishikino Masaharu;Kon Akira;Owada Shigeki;Inubushi Yuichi;Kinoshita Hiroo;Kozawa Takahiro
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实现未来光刻机EUV-FEL高功率光源的重要里程碑
DOI：
10.1117/12.2573121
发表时间：
2020
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
R. Kato;H. Sakai;K. Tsuchiya;Y. Tanimoto;Y. Honda;T. Miyajima;M. Shimada;N. Nakamura;H. Kawata
通讯作者：
H. Kawata
聚合物辐射分解中的线性能量传递效应。
影响因子：
5.5
作者：
W. Schnabel;S. Klaumuenzer;H. Sotobayashi;F. Asmussen;Y. Tabata
通讯作者：
Y. Tabata
聚(4-乙烯基苯酚)薄膜的光化学反应
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
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通讯作者：
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甲基丙烯酸酯主链聚合物化学放大电子束抗蚀剂模型体系中的敏化距离和产酸效率
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
J. Photopolym. Sci. Technol. 20
影响因子：
--
作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;and T. Shimokawa
通讯作者：
and T. Shimokawa
影响因子：
1.4
作者：
Fallica, Roberto;Kazazis, Dimitrios;Ekinci, Yasin
通讯作者：
Ekinci, Yasin