Synthesis and characterization of type II silicon clathrate films with low Na concentration
Synthesis and characterization of type II silicon clathrate films with low Na concentration
复制标题
低Na浓度II型硅包合物薄膜的合成与表征
DOI：
10.1063/5.0062723
复制
发表时间：
2021
影响因子：
15
通讯作者：
Collins, Reuben T.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Liu, Yinan;Schenken, William K.;Krishna, Lakshmi;Majid, Ahmad A. A.;Furtak, Thomas E.;Walker, Michael;Koh, Carolyn A.;Taylor, P. Craig;Collins, Reuben T.
登录
查看更多内容
影响因子：
4
作者：
J. Pankove;D. Carlson
通讯作者：
J. Pankove;D. Carlson
影响因子：
3.5
作者：
Ammar, A;Cros, C;Reny, E
通讯作者：
Reny, E
利用NaSi靶材耐热装置制备无客体Si笼形薄膜的NaSi薄膜
DOI：
10.1002/pssc.200982755
发表时间：
2010
期刊：
Physica Status Solidi (c)
影响因子：
--
作者：
T. Narita;Hiroyuki Ueno;T. Baba;T. Kume;T. Ban;Tamio Iida;Hitoe Habuchi;H. Natsuhara;S. Nonomura
通讯作者：
S. Nonomura
硅笼形物-II的电化学锂化
影响因子：
3.9
作者：
T. Langer;Sven Dupke;H. Trill;S. Passerini;H. Eckert;R. Pöttgen;M. Winter
通讯作者：
M. Winter
Si 晶片上 Si 包合物的薄膜形成
影响因子：
4
作者：
F. Ohashi;Y. Iwai;A. Noguchi;Tomoya Sugiyama;M. Hattori;Takuya Ogura;R. Himeno;T. Kume;T. Ban;S. Nonomura
通讯作者：
S. Nonomura