Growth and characterization of nitrogen-phosphorus hybrid passivated gate oxide film on N-type 4H-SiC epilayer
Growth and characterization of nitrogen-phosphorus hybrid passivated gate oxide film on N-type 4H-SiC epilayer
复制标题
N型4H-SiC外延层氮磷杂化钝化栅氧化膜的生长及表征
DOI：
10.1016/j.jcrysgro.2018.09.029
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发表时间：
2019-02
影响因子：
1.8
通讯作者：
Han Jisheng
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Jia Yifan;Lv Hongliang;Tang Xiaoyan;Han Chao;Song Qingwen;Zhang Yimen;Zhang Yuming;Dimitrijev Sima;Han Jisheng
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DOI：
10.4028/www.scientific.net/msf.924.449
发表时间：
2018-06
期刊：
Materials Science Forum
影响因子：
--
作者：
Yifan Jia;Hongliang Lv;Xiaoyan Tang;Qingwen Song;Yi Men Zhang;Yu -Ming Zhang
通讯作者：
Yifan Jia;Hongliang Lv;Xiaoyan Tang;Qingwen Song;Yi Men Zhang;Yu -Ming Zhang
影响因子：
4.9
作者：
Okamoto, Dai;Yano, Hiroshi;Fuyuki, Takashi
通讯作者：
Fuyuki, Takashi
DOI：
10.1007/s10854-018-9563-5
发表时间：
2018-07
期刊：
Journal of Materials Science: Materials in Electronics
影响因子：
--
作者：
Yifan Jia;Hongliang Lv;Xiaoyan Tang;Qingwen Song;Yimen Zhang;Yuming Zhang;S. Dimitrijev;Jisheng Han
通讯作者：
Yifan Jia;Hongliang Lv;Xiaoyan Tang;Qingwen Song;Yimen Zhang;Yuming Zhang;S. Dimitrijev;Jisheng Han
DOI：
10.1049/ip-i-1.1983.0010
发表时间：
1983-02
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
K. Cave
通讯作者：
K. Cave
影响因子：
3.2
作者：
Joshua A. Taillon;J. Yang;C. Ahyi;J. Rozen;John R. Williams;L. Feldman;T. Zheleva;A. Lelis;L. Salamanca-Riba
通讯作者：
Joshua A. Taillon;J. Yang;C. Ahyi;J. Rozen;John R. Williams;L. Feldman;T. Zheleva;A. Lelis;L. Salamanca-Riba