Effects of hydrogen treatment on strain relaxation of SiGe epi-layer on Ge substrate
Effects of hydrogen treatment on strain relaxation of SiGe epi-layer on Ge substrate
复制标题
氢处理对Ge衬底上SiGe外延层应变弛豫的影响
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Yamashita
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Kan'no;T.Koyanagi;I.Akimoto;K.Sato;N.Bao;Y.Yamashita
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