Photo-pens: a simple and versatile tool for maskless photolithography.
Photo-pens: a simple and versatile tool for maskless photolithography.
复制标题
DOI：
10.1021/la1028433
复制
发表时间：
2010-11-16
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Kohli P
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhou C;Rajasekaran PR;Wolff J;Li X;Kohli P
我们展示了锥形孔蚀刻在跟踪玻璃芯片在微米尺度上制造图案。基于二乙炔膜的光聚合的高荧光图案通过被称为“光笔”的锥形孔照射UV光而形成。通过实验、时域有限差分法（FDTD）模拟和基于菲涅耳方程的数值计算，研究了光电笔的特性。我们表明，图案的尺寸很容易控制通过调整曝光时间。因此，可以制造具有一定尺寸范围的图案，而不需要改变孔径。平行图案化也通过同时将膜暴露于通过芯片中的多个孔的光子来证明。我们的方法提供了一种廉价的，通用的，有效的方式图案化，而不使用复杂的掩模。
We demonstrate conical pores etched in tracked glass chips for fabricating patterns at micron-scale. Highly fluorescent patterns based on photopolymerization of diacetylene films were formed by irradiating UV light through conical pores called “photo-pens”. The properties of photo-pens were investigated through experiments, Finite-difference-time-domain (FDTD) simulations and numerical calculations based on Fresnel equations. We show that the pattern dimensions are easily controlled by adjusting the exposure time. Thus, patterns with a range of dimensions can be fabricated without any need of changes in the pore diameter. Parallel patterning was also demonstrated by simultaneously exposing the films to photons through multiple pores in the chip. Our method provides an inexpensive, versatile, and efficient way for patterning without the use of sophisticated masks.
登录
查看更多内容
影响因子：
56.9
作者：
Piner, RD;Zhu, J;Mirkin, CA
通讯作者：
Mirkin, CA
影响因子：
56.9
作者：
Lee, KB;Park, SJ;Mrksich, M
通讯作者：
Mrksich, M
影响因子：
10.8
作者：
Park, Jang-Ung;Lee, Sangkyu;Rogers, John A.
通讯作者：
Rogers, John A.
影响因子：
10.8
作者：
Bruckbauer, A;Zhou, DJ;Klenerman, D
通讯作者：
Klenerman, D
影响因子：
41.2
作者：
Park, Jang-Ung;Hardy, Matt;Rogers, John A.
通讯作者：
Rogers, John A.