Y.Gotoh: "Epitaxial Orientation relationship of V on Ag(111)Films"
Y.Gotoh: "Epitaxial Orientation relationship of V on Ag(111)Films"
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Y.Gotoh：“V 在 Ag(111) 薄膜上的外延取向关系”
DOI：
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发表时间：
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期刊：
影响因子：
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通讯作者：
中科院分区：
文献类型：
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作者：
界面能量的直接计算：轴向补偿和应变在外延生长中的作用。
DOI：
10.1103/physrevb.35.8042
发表时间：
1987
期刊：
Physical Review B (Condensed Matter)
影响因子：
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作者：
Kobayashi;Das Sarma S
通讯作者：
Das Sarma S
铜缓冲层上真空蒸发铁和钒薄膜的外延生长
影响因子：
1.5
作者：
Y. Ando;D. Dingley
通讯作者：
D. Dingley
膜厚和退火条件对Pb蒸气掺杂BSCCO薄膜2223相生长的影响
DOI：
10.1143/jjap.29.l943
发表时间：
1990
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Hayakawa;Keikichi G. Nakamura;S. Ikeda;K. Ogawa;Satoshi Takahashi
通讯作者：
Satoshi Takahashi