Characterization of anisotropic etching properties of single crystal silicon ; Effects of ppb-level of Cu and Pb in KOH solution
Characterization of anisotropic etching properties of single crystal silicon ; Effects of ppb-level of Cu and Pb in KOH solution
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单晶硅各向异性刻蚀特性表征；
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K.Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Tanaka;D.Cheng;M.Shikida;K.Sato
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首次使用基于二维孔径控制的集成库尔特计数器进行粒子测量
DOI：
10.1109/sensor.2003.1215311
发表时间：
2003
期刊：
TRANSDUCERS '03. 12th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems. Digest of Technical Papers (Cat. No.03TH8664)
影响因子：
--
作者：
J. H. Nieuwenhuis;F. Kohl;J. Bastemeijer;M. Vellekoop
通讯作者：
M. Vellekoop
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
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影响因子：
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作者：
M. Gosálvez
通讯作者：
M. Gosálvez
金属杂质对 KOH 水溶液中硅各向异性蚀刻的影响
DOI：
10.1109/sensor.1997.613745
发表时间：
1997
期刊：
Proceedings of International Solid State Sensors and Actuators Conference (Transducers '97)
影响因子：
--
作者：
A. Hein;O. Dorsch;E. Obermeier
通讯作者：
E. Obermeier
影响因子：
2.3
作者：
M. Shikida;K. Tokoro;D. Uchikawa;Kazuo Sato
通讯作者：
Kazuo Sato
氢氧化钾水溶液中ppb级金属杂质对Si{110}和{100}刻蚀的影响
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Sensors and Materials 15-1
影响因子：
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作者：
H.Tanaka;Y.Abe;K.Inoue;M.Shikida;K.Sato
通讯作者：
K.Sato