Effects of fcc noble metal underlayer and substrate temperature on the formation of Ni(111) epitaxial thin films
Effects of fcc noble metal underlayer and substrate temperature on the formation of Ni(111) epitaxial thin films
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fcc贵金属底层和衬底温度对Ni(111)外延薄膜形成的影响
DOI：
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发表时间：
2010
影响因子：
2.1
通讯作者：
Tsutomu Nishiyama
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yamaguchi T;Ikeuchi M;Tsukaya H;Mitsuru Ohtake;Mitsuru Ohtake;Hirokazu Ikeya;Osamu Yabuhara;Mitsuru Ohtake;長野克政;Mitsuru Ohtake;額賀友理;Takahiro Tanaka;Tsutomu Nishiyama
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电沉积镍/铜和钴/铜多层膜中的巨磁阻
影响因子：
3.9
作者：
K. D. Bird;M. Schlesinger
通讯作者：
M. Schlesinger
应变 (111) Ni/Au 超晶格的磁化强度、居里温度和磁各向异性。
DOI：
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发表时间：
1992
期刊：
Physical Review B (Condensed Matter)
影响因子：
--
作者：
Childress;Chien;Jankowski
通讯作者：
Jankowski
MgO单晶衬底上外延生长的Co/Cr双层薄膜的微观结构
DOI：
--
发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Nakamura;M. Koguchi;Masaaki Futamoto Masaaki Futamoto
通讯作者：
Masaaki Futamoto Masaaki Futamoto
放电压力对面向靶溅射制备Ag/Ni超晶格性能的影响
影响因子：
3.2
作者：
Xianting Zeng;H. Wong
通讯作者：
H. Wong
垂直磁化 Ni/Cu/Ni 外延三层中的反铁磁耦合
影响因子：
2.7
作者：
G. Gubbiotti;G. Carlotti;M. Ciria;F. Spizzo;R. Zivieri;L. Giovannini;F. Nizzoli;R. O'handley
通讯作者：
R. O'handley