熱パルスイオン化による質量分析装置の開発
熱パルスイオン化による質量分析装置の開発
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开发利用热脉冲电离的质谱仪
DOI：
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发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
高村禅
中科院分区：
文献类型：
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作者：
羅希、Phan Troung Tue;高村禅
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一种新型两级金属电极晶体管
DOI：
10.1149/1.2133121
发表时间：
1977
期刊：
影响因子：
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作者：
A. Saiki;S. Harada;T. Okubo;K. Mukai;Takeshi Kimura
通讯作者：
Takeshi Kimura
使用质谱在硅上蚀刻 SiO2 薄膜时进行终点检测
DOI：
10.1143/jjap.20.1255
发表时间：
1981
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Oshima
通讯作者：
M. Oshima
电介质蚀刻的灵敏终点检测
DOI：
10.1149/1.1350675
发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
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作者：
E. Hudson;F. C. Dassapa
通讯作者：
F. C. Dassapa
影响因子：
4
作者：
YOUNG, RJ
通讯作者：
YOUNG, RJ
发射光谱法测定铝 CCl4 等离子蚀刻的终点
DOI：
10.1149/1.2131559
发表时间：
1978
期刊：
影响因子：
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作者：
B. J. Curtis;H. Brunner
通讯作者：
H. Brunner