Recent Progress in Complex Plasmas
Recent Progress in Complex Plasmas
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复杂等离子体的最新进展
DOI：
10.1002/ctpp.201200076
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发表时间：
2012
影响因子：
1.6
通讯作者：
J. Meichsner (guest eds.)
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Bonitz;J. Meichsner (guest eds.)
综述了近年来复杂等离子体领域的研究进展。重点是参与Greifswald和Kiel大学以及莱布尼茨等离子体研究与技术研究所24“复杂等离子体基础”合作研究中心的研究小组的活动。本文综述了强相关尘埃等离子体、反应性等离子体和电负性等离子体以及等离子体-表面相互作用的研究成果，并对本期特刊的后续文章作了介绍。重点介绍了重要的发展并概述了未来的研究方向（©2012 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim）
An overview on recent developments in the field of complex plasmas is presented. The focus is directed on the activities of research groups participating in the Collaborative Research Centre 24 “Fundamentals of Complex Plasmas” at the Universities in Greifswald and Kiel as well as at the Leibniz‐Institute for Plasma Research and Technology. This article summarizes results on strongly correlated dusty plasmas, reactive as well as electronegative plasmas and plasma‐surface interaction, and gives an introduction to the following articles of this special issue. Important developments are highlighted and future research directions are outlined (© 2012 WILEY‐VCH Verlag GmbH & Co. KGaA, Weinheim)
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