Nanometer-scale molecular deposition using the surface Plasmon polariton interference field on a metal film
Nanometer-scale molecular deposition using the surface Plasmon polariton interference field on a metal film
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利用金属薄膜上的表面等离子体激元干涉场进行纳米级分子沉积
DOI：
10.1063/1.3560306
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发表时间：
2011-03
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Shining Zhu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yaling Yin;Tao Li;Ping Xu;Hua Jin;Shining Zhu
我们探索了利用表面等离子体激元干涉场在带有两个双缝的银膜上沉积中性分子的可能性。蒙特卡罗模拟结果表明，当分子束高度准直时，沉积的分子图样为宽度分辨率为∼10 nm、周期为5 30 nm的周期线阵。文中还详细讨论了沉积分辨率与系统参数的关系、潜在的应用和改进。
We explore the possibility of using the surface plasmon polariton interference field to deposit neutral molecules onto a silver film perforated with two double-slits. The Monte Carlo simulated results show that the deposited molecular pattern is the periodic line array with a width resolution of ∼10 nm and a period of 530 nm when the molecular beam is well-collimated. Dependences of the deposition resolution on the system parameters, the potential applications and improvements are also discussed in some detail.
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影响因子：
8.6
作者：
L. D. van Buuren;C. Sommer;M. Motsch;S. Pohle;M. Schenk;J. Bayerl;P. Pinkse;G. Rempe
通讯作者：
L. D. van Buuren;C. Sommer;M. Motsch;S. Pohle;M. Schenk;J. Bayerl;P. Pinkse;G. Rempe
影响因子：
56.9
作者：
Piner, RD;Zhu, J;Mirkin, CA
通讯作者：
Mirkin, CA
影响因子：
4
作者：
te E Edwin Sligte;B. Smeets;van der Kmr Stam;Rw Rudolf Herfst;P. Straten;Hcw Herman Beijerinck;Van Lee
通讯作者：
te E Edwin Sligte;B. Smeets;van der Kmr Stam;Rw Rudolf Herfst;P. Straten;Hcw Herman Beijerinck;Van Lee
DOI：
10.1147/rd.455.0615
发表时间：
2001-09
期刊：
IBM J. Res. Dev.
影响因子：
--
作者：
R. Dhaliwal;W. A. Enichen;S. Golladay;M. Gordon;R. Kendall;J. E. Lieberman;H. C. Pfeiffer;David J. Pinckney;C. Robinson;James D. Rockrohr;W. Stickel;E. V. Tressler
通讯作者：
R. Dhaliwal;W. A. Enichen;S. Golladay;M. Gordon;R. Kendall;J. E. Lieberman;H. C. Pfeiffer;David J. Pinckney;C. Robinson;James D. Rockrohr;W. Stickel;E. V. Tressler
影响因子：
4
作者：
Cooper, EB;Manalis, SR;Quate, CF
通讯作者：
Quate, CF