Molecular beam epitaxy of GaNAs alloys with high As content for potential photoanode applications in hydrogen production

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高As含量GaNAs合金的分子束外延在制氢中的潜在光阳极应用

DOI:
10.1116/1.3368600
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发表时间:
2010
期刊:
Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
影响因子:
--
通讯作者:
Novikov S
Novikov S
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Novikov S

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