Nanoanalysis of a sub-nanometre reaction layer in a metal inserted high-k gate stack
Nanoanalysis of a sub-nanometre reaction layer in a metal inserted high-k gate stack
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金属插入高 k 栅极堆叠中亚纳米反应层的纳米分析
DOI：
10.1016/j.mee.2011.03.084
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发表时间：
2011
影响因子：
2.3
通讯作者：
Craven A
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Craven A
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DOI：
--
发表时间：
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期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Craven
通讯作者：
A. Craven
使用纳米分析电子显微镜研究高 k 栅极堆叠中的物理和化学变化
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作者：
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通讯作者：
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--
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通讯作者：
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