Growth Characteristics of Ca_xCd_<1-x>F_2 Films on Si Substrates Using CaF_2 Buffer Layer
Growth Characteristics of Ca_xCd_<1-x>F_2 Films on Si Substrates Using CaF_2 Buffer Layer
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CaF_2缓冲层在Si衬底上Ca_xCd_<1-x>F_2薄膜的生长特性
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Tsutsui
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Kanibayashi;T.Gotoh;H.Maeda;K.Tsutsui
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影响因子：
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