Contribution in Semiconductor Industry of Surface Science
Contribution in Semiconductor Industry of Surface Science
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表面科学对半导体产业的贡献
DOI：
10.1380/jsssj.32.246
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Makoto Nakamura
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Makoto Nakamura
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使用 UPS、XPS 和 AES 测量功函数的原理和实用知识
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
表面科学 28
影响因子：
--
作者：
佐竹信一;功刀資彰;佐藤一穂;伊藤智義;谷口淳;吉武道子
通讯作者：
吉武道子
金属/高 k 电介质栅堆叠的光电研究，
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
R;Yougauchi;K. Makihara;大田 晃生;門島 勝;三浦 真嗣;奥山 一樹;大田 晃生;大田 晃生;大田 晃生;A. Ohta;Akio Ohta;A. Ohta;S. Miyazaki
通讯作者：
S. Miyazaki
影响因子：
4
作者：
HIGASHI, GS;CHABAL, YJ;RAGHAVACHARI, K
通讯作者：
RAGHAVACHARI, K
DOI：
10.1116/1.575980
发表时间：
1989-05-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
影响因子：
--
作者：
CHABAL, YJ;HIGASHI, GS;BURROWS, VA
通讯作者：
BURROWS, VA