Electrostatic Properties of Organic Films on Silicon Oxides Studied by Kelvin Probe Force Microscopy
Electrostatic Properties of Organic Films on Silicon Oxides Studied by Kelvin Probe Force Microscopy
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开尔文探针力显微镜研究二氧化硅有机薄膜的静电性能
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
三島良太
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Jun TAKAHASHI;Yoichi ITOH;Sigeru TAKAHASHI;藤喜彩;三島良太;Jun Takahashi;藤喜 彩;三島良太;高橋隼;藤喜 彩;三島良太;高橋隼;三島良太
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影响因子：
1.5
作者：
T. Yokoyama;C. Park;T. Nishimura;K. Kita;A. Toriumi
通讯作者：
T. Yokoyama;C. Park;T. Nishimura;K. Kita;A. Toriumi
有序分子的表面电势显微镜
DOI：
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发表时间：
2002
期刊：
Appl.Surf.Sci. 188
影响因子：
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作者：
Hiroyuki Sugimura;Nagahiro Saito;Kazuyuki Hayashi;Noriya Maeda;Osamu Takai;H.Sugimura et al.;H.Sugimura et al.
通讯作者：
H.Sugimura et al.
影响因子：
3.7
作者：
Nabok, Dmitrii;Puschnig, Peter;Smilgies, Detlef-M.
通讯作者：
Smilgies, Detlef-M.
通过光电发射光谱研究共轭低聚物薄膜与 SiO2/Si(111) 之间界面的电子特性
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
作者：
V. Papaefthimiou;A. Siokou;S. Kennou
通讯作者：
S. Kennou
全氟并五苯薄膜的结构、形貌和生长动力学
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
S. Kowarik;A. Gerlach;A. Hinderhofer;S. Milita;F. Borgatti;F. Zontone;Toshiyasu Suzuki;F. Biscarini;F. Schreiber
通讯作者：
F. Schreiber