Fabrication of a seamless roll mold using inorganic electron beam resist with postexposure bake
Fabrication of a seamless roll mold using inorganic electron beam resist with postexposure bake
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使用无机电子束抗蚀剂和曝光后烘烤制造无缝辊模具
DOI:
10.1116/1.3656052
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发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Kiyoshi ISHIKAWA
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Noriyuki UNNO;Jun TANIGUCHI;Kiyoshi ISHIKAWA
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影响因子:
2.3
作者:
V. Velkova;G. Lalev;H. Hirshy;S. Scholz;J. Hiitola;H. Gold;A. Haase;J. Hast;B. Stadlober;S. Dimov
通讯作者:
S. Dimov
影响因子:
2.3
作者:
N. Unno;J. Taniguchi
通讯作者:
N. Unno;J. Taniguchi
DOI:
--
发表时间:
1994
期刊:
影响因子:
--
作者:
R. J. Albalak;E. Thomas
通讯作者:
E. Thomas
影响因子:
2.3
作者:
Kenta Ogino;J. Taniguchi;S. Satake;Keisuke Yamamoto;Y. Ishii;K. Ishikawa
通讯作者:
K. Ishikawa
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
Noriyuki UNNO;Jun TANIGUCHI;Kiyoshi Ishikawa
通讯作者:
Kiyoshi Ishikawa