Fabrication of the seamless roll mold using inorganic electron beam resist with post exposure bake
Fabrication of the seamless roll mold using inorganic electron beam resist with post exposure bake
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使用无机电子束抗蚀剂和后曝光烘烤制造无缝辊模具
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Kiyoshi Ishikawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Noriyuki UNNO;Jun TANIGUCHI;Kiyoshi Ishikawa
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N. Ahner;S. Schulz;F. Blaschta;M. Rennau
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通讯作者：
K. Ishikawa
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DOI：
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发表时间：
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期刊：
Digest of Papers Microprocesses and Nanotechnology 2000. 2000 International Microprocesses and Nanotechnology Conference (IEEE Cat. No.00EX387)
影响因子：
--
作者：
E. Seo;O. Kim
通讯作者：
O. Kim