Ion beam sputtering of Ti: Influence of process parameters on angular and energy distribution of sputtered and backscattered particles
Ion beam sputtering of Ti: Influence of process parameters on angular and energy distribution of sputtered and backscattered particles
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Ti 的离子束溅射:工艺参数对溅射和背散射粒子的角度和能量分布的影响
DOI:
10.1016/j.nimb.2016.08.017
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发表时间:
2016
影响因子:
1.3
通讯作者:
C. Bundesmann
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
T. Lautenschläger;R. Feder;H. Neumann;C. Rice;M. Schubert;C. Bundesmann
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DOI:
10.1016/s0168-583x(01)00573-0
发表时间:
2001
影响因子:
1.3
作者:
A. Goehlich;D. Gillmann;H. Döbele
通讯作者:
H. Döbele
DOI:
10.1016/s0168-583x(99)01106-4
发表时间:
2000
影响因子:
1.3
作者:
A. Goehlich;D. Gillmann;H. Döbele
通讯作者:
H. Döbele
影响因子:
1.6
作者:
C. Bundesmann;R. Feder;T. Lautenschläger;H. Neumann
通讯作者:
H. Neumann
影响因子:
2.1
作者:
Boydens, F.;Leroy, W. P.;Depla, D.
通讯作者:
Depla, D.
影响因子:
1
作者:
H. Roosendaal;J. Sanders
通讯作者:
J. Sanders