Ion beam sputtering of Ti: Influence of process parameters on angular and energy distribution of sputtered and backscattered particles

Ion beam sputtering of Ti: Influence of process parameters on angular and energy distribution of sputtered and backscattered particles
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Ti 的离子束溅射:工艺参数对溅射和背散射粒子的角度和能量分布的影响

DOI:
10.1016/j.nimb.2016.08.017
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发表时间:
2016
影响因子:
1.3
通讯作者:
C. Bundesmann
C. Bundesmann
中科院分区:
物理与天体物理4区
文献类型:
--
作者:
T. Lautenschläger;R. Feder;H. Neumann;C. Rice;M. Schubert;C. Bundesmann

文献摘要

参考文献

被引文献

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