Silica nanomachjning using laser plasma soft x rays
Silica nanomachjning using laser plasma soft x rays
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使用激光等离子体软 X 射线进行二氧化硅纳米加工
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Niino,
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tetsuya;Makimura・Satoshi;Uchida・Kouichi;Murakami・Hiroyuki;Niino,
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使用 10Hz 激光等离子体辐射源通过 X 射线光刻对有机聚合物进行微加工
DOI：
10.1016/j.mee.2004.12.058
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
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作者：
A. Bartnik;H. Fiedorowicz;R. Jarocki;L. Juha;J. Kostecki;R. Rakowski;M. Szczurek
通讯作者：
M. Szczurek
使用激光等离子体源在强烈 EUV 照射下固体的表面变化
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
Optics + Optoelectronics
影响因子：
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作者：
A. Bartnik;H. Fiedorowicz;R. Jarocki;J. Kostecki;R. Rakowski;M. Szczurek
通讯作者：
M. Szczurek
PMMA 抗蚀剂的深紫外烧蚀
DOI：
10.1143/jjap.22.l67
发表时间：
1983
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Lanagan;S. Lindsey;N. Viswanathan
通讯作者：
N. Viswanathan
甲基丙烯酸 2-羟乙酯和甲基丙烯酸甲酯的罗丹明 640 掺杂共聚物的激光作用
DOI：
10.1016/0030-4018(94)00648-e
发表时间：
1995
期刊：
影响因子：
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作者：
F. Amat‐Guerri;Á. Costela;J. Figuera;F. Florido;I. García‐Moreno;R. Sastre
通讯作者：
R. Sastre
激光等离子体软X射线烧蚀石英玻璃的过程
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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作者：
Tetsuya Makimura;Takashige Fujimori;Hiroyuki Niino;Kouichi Murakami
通讯作者：
Kouichi Murakami