M.Ishii: "The optically active center and its activation process in Er-doped Si thin film produced by laser ablation" J.Appl.Phys.(to be published). (1999)
M.Ishii: "The optically active center and its activation process in Er-doped Si thin film produced by laser ablation" J.Appl.Phys.(to be published). (1999)
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M.Ishii:“激光烧蚀制备的掺铒硅薄膜中的光学活性中心及其激活过程”J.Appl.Phys.(待出版)。
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DOI:
10.1143/jjap.27.l34
发表时间:
1988
期刊:
影响因子:
--
作者:
S. Komuro;Y. Aoyagi;T. Morikawa;S. Namba
通讯作者:
S. Namba
DOI:
10.1016/s0169-4332(96)00560-0
发表时间:
1997
期刊:
影响因子:
--
作者:
K. Hafidi;Y. Ijdiyaou;M. Azizan;E. L. Ameziane;A. Outzourhit;T. Tan;M. Brunel
通讯作者:
M. Brunel
DOI:
--
发表时间:
1960
期刊:
Journal of Research of the National Bureau of Standards Section A Physics and Chemistry
影响因子:
--
作者:
R. Roth;S. Schneider
通讯作者:
S. Schneider
影响因子:
4
作者:
R. Smith;H. Müller;H. Ennen;P. Wennekers;M. Maier
通讯作者:
M. Maier
影响因子:
3.2
作者:
K. Takahei;A. Taguchi
通讯作者:
A. Taguchi