Fabrication of sub-5 nm nanochannels in insulating substrates using focused ion beam milling.
Fabrication of sub-5 nm nanochannels in insulating substrates using focused ion beam milling.
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DOI：
10.1021/nl103369g
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发表时间：
2011-02-09
期刊：
影响因子：
10.8
通讯作者：
Ramsey JM
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Menard LD;Ramsey JM
描述了使用聚焦离子束（FIB）铣削来制造具有延伸到5nm以下的临界尺寸的纳米通道。FIB铣削线随着它们被铣削到衬底中更深处而具有变窄的宽度。这种聚焦特性与由沉积在衬底上的相对厚（>100 nm）的金属膜组成的双层结构相结合。通过金属层铣削通道，直到其穿透到基底材料中的规定深度。然后去除金属，留下具有光滑表面和小至5 nm的横向尺寸的纳米通道。这些开放的纳米通道可以用盖板密封，所得的装置非常适合单分子DNA转运研究。这种方法用于石英，单晶硅，和聚二甲基硅氧烷基板，以证明其通用性。
The use of focused ion beam (FIB) milling to fabricate nanochannels with critical dimensions extending below 5 nm is described. FIB milled lines have narrowing widths as they are milled deeper into a substrate. This focusing characteristic is coupled with a two-layered architecture consisting of a relatively thick (>100 nm) metal film deposited onto a substrate. A channel is milled through the metal layer until it penetrates a prescribed depth into the substrate material. The metal is then removed, leaving a nanochannel with smooth surfaces and lateral dimensions as small as sub-5 nm. These open nanochannels can be sealed with a cover plate and the resulting devices are well-suited for single-molecule DNA transport studies. This methodology is used with quartz, single-crystal silicon, and polydimethylsiloxane substrates to demonstrate its general utility.
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影响因子：
64.8
作者：
Striemer, Christopher C.;Gaborski, Thomas R.;Fauchet, Philippe M.
通讯作者：
Fauchet, Philippe M.
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5.5
作者：
Balducci, Anthony;Mao, Pan;Doyle, Patrick S.
通讯作者：
Doyle, Patrick S.
影响因子：
8.6
作者：
Nikoobakht, Babak
通讯作者：
Nikoobakht, Babak
DOI：
10.1007/s00339-002-1890-x
发表时间：
2003-03-01
影响因子：
2.7
作者：
Lugstein, A;Basnar, B;Bertagnolli, E
通讯作者：
Bertagnolli, E
影响因子：
2.3
作者：
Nakayama, T.;Sotome, S.;Shinji, S.
通讯作者：
Shinji, S.