Effects of negative bias on the structural, topological and tribological properties of amorphous carbon films prepared by magnetron sputtering
Effects of negative bias on the structural, topological and tribological properties of amorphous carbon films prepared by magnetron sputtering
复制标题
负偏压对磁控溅射非晶碳薄膜结构、拓扑和摩擦学性能的影响
DOI：
10.1002/sia.3702
复制
发表时间：
2011-09
影响因子：
1.7
通讯作者：
Zhang, Junyan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang, Zhou;Wang, Zhou;Wang, Chengbing;Wang, Chengbing;Zhang, Bin;Zhang, Bin;Wang, Qi;Wang, Qi;Zhang, Junyan;Zhang, Junyan
在磁控溅射系统中，在不同的直流负衬底偏压（-50、-100、-150、-200和-250 V）下制备了非晶碳膜。通过B分析了沉积态薄膜的表面粗糙度、硬度和摩擦学性能
Amorphous carbon films were prepared in a magnetron sputtering system at different d.c. negative substrate biases (−50, − 100, − 150, − 200 and − 250 V). The surface roughness, hardness and tribological properties of as‐deposited films were investigated b
登录
查看更多内容
双离子束溅射氮化碳硅薄膜的表面粗糙度、力学性能及键合结构
影响因子：
6.2
作者：
周飞;王晓雷;岳宾;诸葛兰剑;吴雪梅
通讯作者：
吴雪梅
影响因子：
1.7
作者：
G. Compagnini;R. Reitano
通讯作者：
G. Compagnini;R. Reitano
影响因子：
3.7
作者：
Ferrari, AC;Robertson, J
通讯作者：
Robertson, J
影响因子：
4
作者：
Kazuhiro Yamamoto
通讯作者：
Kazuhiro Yamamoto
影响因子：
1.7
作者：
H. Dai;Hui Jiang;Changyong Zhan;N. Huang
通讯作者：
H. Dai;Hui Jiang;Changyong Zhan;N. Huang