Optimization of hybrid PVD process of TiAlN coatings by Taguchi method
Optimization of hybrid PVD process of TiAlN coatings by Taguchi method
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田口法优化TiAlN涂层混合PVD工艺
DOI：
10.1016/j.apsusc.2008.06.204
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发表时间：
2008-12
影响因子：
6.7
通讯作者：
Cheng, Xiaoling
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang, Chengyong;Zhang, Fenglin;Yu, Donghai;Cheng, Xiaoling
采用田口方法优化了空心阴极放电离子镀（HCDIP）和中频磁控溅射离子镀（MFMSIP）复合物理气相沉积（PVD）系统制备的TiAlN涂层的性能。采用该涂层体系制备的TiAlN涂层具有（111）择优取向的柱状组织。对显微硬度的敏感参数是沉积总压力和基底偏压，对铣削性能的敏感参数是基底偏压。最佳工艺条件为：总沉积压力0.9Pa，N2流量250 sccm，衬底偏压-120V。最后通过实验确定了最佳的TiAlN涂层，其显微硬度为25.8GPa，最佳的TiAlN涂层立铣刀铣削长度为50.8m。
Taguchi method was applied to optimize the performances of TiAlN coatings deposited by hollow cathode discharge ion plating (HCDIP) and medium frequency magnetron sputtering ion plating (MFMSIP) hybrid physical vapor deposition (PVD) coating system. TiAlN coatings prepared by this coating system showed columnar microstructure with the preferred orientation of (111). The sensitive parameters on microhardness were total deposition pressure and substrate bias voltage, and the sensitive parameter on milling performance was substrate bias voltage. The optimum conditions were total deposition pressure: 0.9Pa, flowrate of N2: 250sccm, substrate bias voltage: −120V. And the confirming experiment obtained the optimum TiAlN coating with microhardness of 25.8GPa, and the best TiAlN-coated end mill performed the milling length of 50.8m.
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影响因子：
4.6
作者：
W. Chou;Chunting Sun;G. Yu;Jia-Hong Huang
通讯作者：
W. Chou;Chunting Sun;G. Yu;Jia-Hong Huang
影响因子：
5.4
作者：
K. Sato;N. Ichimiya;A. Kondo;Y. Tanaka
通讯作者：
K. Sato;N. Ichimiya;A. Kondo;Y. Tanaka
影响因子：
5.4
作者：
Bujak, J;Walkowicz, J;Kusinski, J
通讯作者：
Kusinski, J
影响因子：
5.4
作者：
C. Falub;A. Karimi;M. Ante;W. Kalss
通讯作者：
C. Falub;A. Karimi;M. Ante;W. Kalss
影响因子：
5.4
作者：
K. Bouzakis;G. Skordaris;N. Michailidis;I. Mirisidis;G. Erkens;R. Cremer
通讯作者：
K. Bouzakis;G. Skordaris;N. Michailidis;I. Mirisidis;G. Erkens;R. Cremer