Structures of quasi-freestanding ultra-thin silicon films deposited on chemically inert surfaces
Structures of quasi-freestanding ultra-thin silicon films deposited on chemically inert surfaces
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沉积在化学惰性表面上的准独立式超薄硅膜的结构
DOI：
10.1016/j.chemphys.2014.09.011
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
2.3
通讯作者：
N. Hirao and T. Sekiguchi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y. Baba;I. Shimoyama;N. Hirao and T. Sekiguchi
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