IONIC-LIQUID MICRO ION SOURCE ARRAY FOR FLEXYBLE CONCURRENT MEMS PROCESS
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用于灵活并发 MEMS 工艺的离子液体微离子源阵列
DOI：
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发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Tatsuya Suzuki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Tatsuya Suzuki;Motoaki Hara;Hiroyuki Oguchi;and Hiroki Kuwano;Tatsuya Suzuki
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用于灵活并发处理的微机械微离子源
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems 2008
影响因子：
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作者：
Ryo Kambayashi;Tako Kato;S. Tamonoki
通讯作者：
S. Tamonoki
用于硅反应加工的离子液体离子源
影响因子：
2.3
作者：
S. Guilet;C. Perez;P. Jégou;P. Lozano;J. Giérak
通讯作者：
J. Giérak
暴露于聚焦镓离子束的抗蚀剂的干法显影
影响因子：
1.5
作者：
H. Kuwano;K. Yoshida;S. Yamazaki
通讯作者：
S. Yamazaki
DOI：
10.2172/4393563
发表时间：
1952
期刊：
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影响因子：
--
作者：
R. Rummel;J. R. Sites;R. Baldock
通讯作者：
R. Baldock
采用聚焦离子束曝光和随后的干法蚀刻进行抗蚀剂图案化和 X 射线掩模制造
影响因子：
1.4
作者：
H. Kuwano;H. Takaoka;A. Ozawa
通讯作者：
A. Ozawa