破壊のナノ力学(第1報 ナノ構造体の界面強度)
破壊のナノ力学(第1報 ナノ構造体の界面強度)
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纳米断裂力学（第 1 部分：纳米结构的界面强度）
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
嶋田隆広
中科院分区：
文献类型：
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作者：
北村隆行;澄川貴志;嶋田隆広
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铜亚微米点与二氧化硅基底之间界面强度的直接测量
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
JSME International Journal, Ser. A Vol. 47(with peer review)
影响因子：
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作者：
Hiroyuki Hirakata;Takayuki Kitamura and Yoshitake Yamamoto
通讯作者：
Takayuki Kitamura and Yoshitake Yamamoto
影响因子：
9.4
作者：
H. Hirakata;M. Kitazawa;T. Kitamura
通讯作者：
H. Hirakata;M. Kitazawa;T. Kitamura
通过多级剥离试验评价界面强度
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Key Engineering Materials Vol261-263
影响因子：
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作者：
M.Omiya;H.Inoue;K.Kishimoto
通讯作者：
K.Kishimoto
一种表征基底上薄膜强度的新系统方法——通过“薄膜投影”评估机械性能
影响因子：
2.1
作者：
S. Kamiya;Hiroki Kimura;K. Yamanobe;M. Saka;H. Abé
通讯作者：
H. Abé
基板上压电薄膜界面自由边缘分层的实验和理论研究
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
International Journal of Solids and Structures 42
影响因子：
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作者：
F.Shang;T.Kitamura;Hiroyuki Hirakata;Isaku Kanno;Hidetoshi Kotera;K Terada
通讯作者：
K Terada