Non-photolithographic pattern transfer for fabricating arrayed 3-D microstructures by chemical anisotropic etching
Non-photolithographic pattern transfer for fabricating arrayed 3-D microstructures by chemical anisotropic etching
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通过化学各向异性蚀刻制造阵列 3D 微结构的非光刻图案转移
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
K.Sato
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Shikida;M.Odagaki;N.Todoroki;M.Ando;Y.Ishihara;T.Ando;K.Sato
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通过化学各向异性蚀刻制造阵列三维微结构的非光刻图案转移
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Sensors and Actuators A116
影响因子：
--
作者：
M.Shikida;M.Odagaki;N.Todoroki;M.Ando;Y.Ishihara;T.Ando;K.Sato
通讯作者：
K.Sato
用于大脑皮层电刺激或记录的微机械硅基电极阵列
DOI：
10.1109/memsys.1991.114805
发表时间：
1991
期刊：
[1991] Proceedings. IEEE Micro Electro Mechanical Systems
影响因子：
--
作者：
R. Normann;P. Campbell;K. E. Jones
通讯作者：
K. E. Jones
用于机械芯片附着的倒刺钉阵列
DOI：
10.1109/memsys.2001.906475
发表时间：
2001
期刊：
Technical Digest. MEMS 2001. 14th IEEE International Conference on Micro Electro Mechanical Systems (Cat. No.01CH37090)
影响因子：
--
作者：
P. Griss;P. Enoksson;G. Stemme
通讯作者：
G. Stemme
影响因子：
4.6
作者：
Shikida, M;Nanbara, K;Asaumi, K
通讯作者：
Asaumi, K