Fabrication of carbon nanomembranes by helium ion beam lithography

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氦离子束光刻法制备碳纳米膜

DOI:
10.3762/bjnano.5.20
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发表时间:
2014
影响因子:
3.1
通讯作者:
A. Gölzhäuser
A. Gölzhäuser
中科院分区:
材料科学3区
文献类型:
--
作者:
X. Zhang;H. Vieker;A. Beyer;A. Gölzhäuser

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参考文献

被引文献

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