Correlation between Oxidation Process of Al Film for Magnetic Tunnel Junctions and Oxidizing Species in the Microwave Excited Plasma

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微波激发等离子体中磁隧道结铝膜氧化过程与氧化物种的相关性

DOI:
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发表时间:
2003
期刊:
Journal of Magnetic Society Japan 27
影响因子:
--
通讯作者:
S.Yoshimura et al.
S.Yoshimura et al.
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Yuichi Taguchi;Takeshi Naemura;S.Yoshimura et al.

文献摘要

参考文献

被引文献

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