Photoluminescence and TEM evaluations of defects generated during SiGe-on-insulator virtual substrate fabrication : Temperature ramping process

Photoluminescence and TEM evaluations of defects generated during SiGe-on-insulator virtual substrate fabrication : Temperature ramping process
复制标题

绝缘体上 SiGe 虚拟衬底制造过程中产生的缺陷的光致发光和 TEM 评估:升温过程

DOI:
--
复制
发表时间:
2006
期刊:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B253
影响因子:
--
通讯作者:
H.Nakashima
H.Nakashima
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
D.Wang;S.Ii;K.Ikeda;H.Nakashima;K.Matsumoto;M.Nakamae;H.Nakashima

文献摘要

参考文献

相似文献

DOI: 10.1063/1.369550
发表时间: 1999
影响因子: 3.2
作者:
N. Usami;K. Leo;Y. Shiraki
通讯作者: Y. Shiraki
使用瞬态电容测量对应变 Si/SiGe 晶圆进行电气表征
DOI: 10.1063/1.1891303
发表时间: 2004
影响因子: 4
作者:
Dong Wang;M. Ninomiya;M. Nakamae;H. Nakashima
通讯作者: H. Nakashima
绝缘体上硅材料覆盖层中 74Ge 离子注入形成的赝晶 SiGe 的光致发光
DOI: 10.1063/1.121536
发表时间: 1998
影响因子: 4
作者:
C. Patel;Q. X. Zhao;O. Nur;M. Willander
通讯作者: M. Willander
通过 H 注入辅助氧化增强超薄绝缘体上 SiGe 的应力松弛
DOI: 10.1063/1.1935028
发表时间: 2005
影响因子: 4
作者:
T. Sadoh;Ryo Matsuura;M. Miyao;M. Ninomiya;M. Nakamae;T. Enokida
通讯作者: T. Enokida