Interface termination and band alignment of epitaxially grown alumina films
Interface termination and band alignment of epitaxially grown alumina films
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外延生长氧化铝薄膜的界面终止和能带排列
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M. Yoshitake;W. Song;et. al.
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铝和硅基体上超薄氧化层的 X 射线光电子能谱研究
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2.1
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T. Šarapatka
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通讯作者：
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DOI：
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发表时间：
2003
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影响因子：
--
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