Nano stenciling through a cm2-wide silicon membrane
Nano stenciling through a cm2-wide silicon membrane
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通过 cm2 宽的硅膜进行纳米模板
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Beomjoon Kim
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Vincent Blech;Takama Nobuyuki;Beomjoon Kim
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扫描探针阳极氧化：使用可阳极氧化材料的薄膜作为抗蚀剂的纳米光刻
DOI：
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发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
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作者：
H. Sugimura;N. Nakagiri
通讯作者：
N. Nakagiri
SOI 材料中注入引起的应变评估
DOI：
10.1002/pssc.200306240
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Tiberj;B. Fraisse;C. Blanc;S. Contreras;J. Camassel
通讯作者：
J. Camassel
使用纳米模板技术制造的光寻址亚微米电极的电性能
影响因子：
2.3
作者：
V. Bucher;J. Brugger;D. Kern;G. Kim;M. Schubert;W. Nisch
通讯作者：
W. Nisch
使用模板光刻技术制造的纳米级扫描传感器
DOI：
10.1063/1.1554483
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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作者：
A. Champagne;A. Couture;F. Kuemmeth;D. Ralph
通讯作者：
D. Ralph