Multiscale analysis of nonequilibrium rarefied gas flows with the application to silicon thin film process employing supersonic jet
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非平衡稀薄气流的多尺度分析及其在超音速喷射硅薄膜工艺中的应用
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Y.Matsumoto
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Y.Sakiyama;S.Takagi;Y.Matsumoto
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基于 MP3/6-311G(3d,3p) 级从头计算分子轨道计算获得的对势对甲烷非键相互作用势参数的细化：H/H 相互作用的各向异性
DOI：
10.1021/j100058a018
发表时间：
1994
期刊：
The Journal of Physical Chemistry
影响因子：
--
作者：
S. Tsuzuki;T. Uchimaru;K. Tanabe;S. Kuwajima
通讯作者：
S. Kuwajima
DOI：
10.1116/1.581089
发表时间：
1998
期刊：
影响因子：
--
作者：
G. Chen;I. Boyd;S. Roadman;James R Engstrom
通讯作者：
James R Engstrom
脉冲超音速喷射外延：硅生长的非热方法
DOI：
10.1063/1.115809
发表时间：
1996
期刊：
影响因子：
--
作者：
R. Malik;E. Gulari
通讯作者：
E. Gulari
采用轴对称环形喷嘴源的硅沉积工艺放大模型。
DOI：
10.1116/1.581672
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
--
作者：
G. Chen;I. Boyd
通讯作者：
I. Boyd
表面波纹在直接平移激活解离吸附中的作用
DOI：
10.1063/1.468424
发表时间：
1994
期刊：
影响因子：
--
作者：
Lidong Xia;James R Engstrom
通讯作者：
James R Engstrom