A diffractometer for quality control in nano fabrication processing based on subwavelength diffraction
A diffractometer for quality control in nano fabrication processing based on subwavelength diffraction
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基于亚波长衍射的纳米制造加工质量控制衍射仪
DOI：
10.1117/12.2085924
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
C.M. Sotomayor Torres
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Kreuzer;J. G. Bresco;M. Sledzinska;C.M. Sotomayor Torres
纳米结构表面的大规模生产依赖于微米尺度图案的周期性重复。在微米尺寸范围内具有纳米特征的单晶可以重复数千次。该系综可用作可见光衍射光栅。衍射阶的相对强度分布是光栅特有的，对纳米尺度的变化很敏感。一种新设计的亚波长衍射装置可以实时测量入射聚合物光栅的衍射模式，只有一个探测器图像。例如，该装置记录了低散射对比度的聚合物光栅的衍射模式，以及610到80纳米范围内的线特征。因此，亚100纳米的特征可以跟踪。将测量的衍射图与模拟的衍射图进行比较，可以感知与制造目标之间的纳米级偏差。
Mass production of nanostructured surfaces relies on the periodic repetition of micrometre scale patterns. A unit cell with nanometre features in the micrometre size range is repeated thousands of times. The ensemble can used as a diffraction grating for visible light. The relative intensity distribution of the diffraction orders is characteristic for the grating and sensitive to nanometre scale changes. A newly designed subwavelength diffraction setup allows the measurement in real time of the diffraction pattern of an illuminated polymer grating with only one detector image. The setup records diffraction patterns of, for example, polymer gratings with intentionally low scattering contrast and line features ranging from 610 to 80 nm. Thus, sub-100 nm features can be traced. The comparison of the measured diffraction patterns with simulated patterns allows to sense nanometre scale deviations from fabrication goals.
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DOI：
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