Particle Formation and Trapping Behavior in a TEOS/O_2 Plasma and Their Effects on Contamination of a Si Wafer.
Particle Formation and Trapping Behavior in a TEOS/O_2 Plasma and Their Effects on Contamination of a Si Wafer.
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TEOS/O_2 等离子体中的颗粒形成和捕获行为及其对硅片污染的影响。
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Setyawan;H.
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高氧气比原硅酸四乙酯等离子体增强化学气相沉积薄膜中的电荷问题
DOI：
10.1116/1.580376
发表时间：
1996
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
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作者：
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通讯作者：
J. Hackenberg
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DOI：
--
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
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通讯作者：
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发表时间：
2002
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通讯作者：
K. Okuyama
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通讯作者：
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