Black silicon with controllable macropore array for enhanced photoelectrochemical performance
Black silicon with controllable macropore array for enhanced photoelectrochemical performance
复制标题
具有可控大孔阵列的黑硅可增强光电化学性能
DOI：
10.1063/1.4752231
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发表时间：
2012-09
影响因子：
4
通讯作者：
Schmidt Volker
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Knez Mato;Meuller Frank;He Sailing;Schmidt Volker
通过可控的电化学刻蚀工艺，获得了具有多尺度织构的大孔硅，用于抑制反射和光捕获。它被原子层包裹了一层二氧化钛。
Macroporous silicon with multiscale texture for reflection suppression and light trapping was achieved through a controllable electrochemical etching process. It was coated with TiO2 by atomic laye ...
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影响因子：
56.9
作者：
Boettcher, Shannon W.;Spurgeon, Joshua M.;Lewis, Nathan S.
通讯作者：
Lewis, Nathan S.
影响因子：
1.7
作者：
M. El-Gomati;F. Zaggout;H. Jayacody;S. Tear;K. Wilson
通讯作者：
M. El-Gomati;F. Zaggout;H. Jayacody;S. Tear;K. Wilson
影响因子：
64.8
作者：
Tian, Bozhi;Zheng, Xiaolin;Lieber, Charles M.
通讯作者：
Lieber, Charles M.
影响因子：
32.5
作者：
Kelzenberg, Michael D.;Turner-Evans, Daniel B.;Atwater, Harry A.
通讯作者：
Atwater, Harry A.
DOI：
10.1002/1521-396x(200011)182:1
发表时间：
2000-11
期刊：
Physica Status Solidi (a)
影响因子：
--
作者：
L. Boarino;M. Rocchia;C. Baratto;A. Rossi;E. Garrone;S. Borini;F. Geobaldo;E. Comini;G. Faglia;G. Sberveglieri;G. Amato
通讯作者：
L. Boarino;M. Rocchia;C. Baratto;A. Rossi;E. Garrone;S. Borini;F. Geobaldo;E. Comini;G. Faglia;G. Sberveglieri;G. Amato