Electron Channeling X-ray Microanalysis for Partially Filled Skutterudite Structure
Electron Channeling X-ray Microanalysis for Partially Filled Skutterudite Structure
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部分填充方钴矿结构的电子通道X射线微量分析
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T.Morimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Nakai;K.Nagai;Y.Murata;M.Morinaga;S.Matsuda;M.Kanno;T.Morimura
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影响因子：
5.4
作者：
H. Kitagawa;M. Hasaka;T. Morimura;H. Nakashima;S. Kondo
通讯作者：
H. Kitagawa;M. Hasaka;T. Morimura;H. Nakashima;S. Kondo
薄晶体中特征 X 射线的产生
DOI：
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发表时间：
1973
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Jacobs;H. Hall;Saffron Waiden
通讯作者：
Saffron Waiden
β-FeSi2 中位点占据的电子通道 X 射线微量分析
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
HRTEM Reports, CIA, Nagasaki University 6
影响因子：
--
作者：
T.Morimura;M.Hasaka
通讯作者：
M.Hasaka
DOI：
10.1107/s0365110x62000481
发表时间：
1962
期刊：
Acta Crystallographica
影响因子：
--
作者：
G. Smith;R. Burge
通讯作者：
R. Burge
Ce_fFe_<8-x>Ni_xSb_<24> 中部分填充方钴矿结构
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
Scripta Materialia 48
影响因子：
--
作者：
T.Morimura;M.Hasaka
通讯作者：
M.Hasaka