Removal of Particles during Plasma Processes Using a Collector based on the Properties of Particles Suspended in the Plasma.
Removal of Particles during Plasma Processes Using a Collector based on the Properties of Particles Suspended in the Plasma.
复制标题
使用基于等离子体中悬浮颗粒特性的收集器去除等离子体过程中的颗粒。
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Setyawan;H.
登录
查看更多内容
DOI：
10.1116/1.578201
发表时间：
1992
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
G. Selwyn;Edward F. Patterson
通讯作者：
Edward F. Patterson
等离子体增强化学气相沉积操作过程步骤中颗粒污染的表征
DOI：
--
发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
--
作者：
H. Setyawan;M. Shimada;Yuji Imajo;Y. Hayashi;K. Okuyama
通讯作者：
K. Okuyama
气流对硅烷射频放电中颗粒生长的影响
影响因子：
1.5
作者：
Yasuhiro Matsuoka;M. Shiratani;T. Fukuzawa;Yukio Watanabe;K. Kim
通讯作者：
K. Kim
DOI：
--
发表时间：
1991
期刊：
影响因子：
--
作者：
G. Selwyn
通讯作者：
G. Selwyn
TEOS/O_2 等离子体中的颗粒形成和捕获行为及其对硅片污染的影响。
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
Aerosol Sci. Tech. 38, 2
影响因子：
--
作者：
Setyawan;H.
通讯作者：
H.