Localized and Programmable Chemical Vapor Deposition Using an Electrically Charged and Guided Molecular Flux.
Localized and Programmable Chemical Vapor Deposition Using an Electrically Charged and Guided Molecular Flux.
复制标题
使用带电和引导分子通量的局部可编程化学气相沉积
DOI：
10.1021/acsnano.0c03726
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发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
17.1
通讯作者：
Jacobs
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Reiprich;Schlag;Hopfeld;Stauden;Pezoldt;Jacobs
化学气相沉积是一种广泛使用的材料沉积技术。它通常向衬底提供均匀的材料流以引起均匀的薄膜生长。然而，精确调节局部沉积速率的能力将是高度优选的。该通信报告了通过引入带电和引导的分子通量以局部和可编程的方式进行的化学气相沉积方法。这允许通过控制电场来局部调节沉积速率和三维形状。具体地，前体分子被充电，然后由电动漏斗阵列引导到预定的沉积位置，其中电动漏斗阵列由图案化的电介质层产生，最小光斑尺寸为250 nm。此外，最近邻耦合作为一种成形方法，导致三维纳米结构的沉积。此外，可单独寻址的域电极的集成提供了可编程的电荷耗散，以实现开/关控制。所描述的方法适用于多种材料和前体。在这里，本地化和可编程的三维氧化铜，氧化铬，氧化锌和碳纳米线的沉积被证明。
Chemical vapor deposition is a widely used material deposition technique. It commonly provides a uniform material flux to the substrate to cause uniform thin film growth. However, the ability to precisely adjust the local deposition rate would be highly preferable. This communication reports on a chemical vapor deposition method performed in a localized and programmable fashion by introducing an electrically charged and guided molecular flux. This allows for local adjustments of the deposition rate and three-dimensional shape by controlling the electric fields. Specifically, the precursor molecules are charged and then guided by arrays of electrodynamic funnels, which are created by a patterned dielectric layer, to predetermined deposition locations with a minimal spot size of 250 nm. Furthermore, nearest neighbor coupling is reported as a shaping method to cause the deposition of three-dimensional nanostructures. Additionally, the integration of individually addressable domain electrodes offers programmable charge dissipation to achieve an ON/OFF control. The described method is applicable to a wide variety of materials and precursors. Here, the localized and programmable deposition of three-dimensional copper oxide, chromium oxide, zinc oxide, and carbon nanowires is demonstrated.
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影响因子：
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作者：
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