Epitaxial growth of well-ordered ultra-thin Al2O3 film on NiAl(110) by a single-step oxidation
Epitaxial growth of well-ordered ultra-thin Al2O3 film on NiAl(110) by a single-step oxidation
复制标题
NiAl(110)上单步氧化外延生长有序超薄Al2O3薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2005
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T.T.Lay,M.Yoshitake and W.Song
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Zhaoyang Wang;Hiroyasu Sone;Yasuhide Tsuji;Masaaki Imai;Shinya Sato;T.T.Lay,M.Yoshitake and W.Song
登录
查看更多内容
通过低能电子衍射和俄歇电子能谱研究 Cu-9%Al(111) 上的氧吸附。
DOI：
10.1116/1.1560719
发表时间：
2003
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
M. Yoshitake;S. Bera;Y. Yamauchi;Weijie Song
通讯作者：
Weijie Song
表面磨削对NiAl和Al2O3/NiAl复合材料强度的影响
影响因子：
4.6
作者：
S. T. Chang;W. Tuan;H. You;I. Lin
通讯作者：
I. Lin
NiAl(110) 上有序 Al2O3 薄膜的透射电子显微镜研究
影响因子：
1.9
作者：
M. Klimenkov;S. Nepijko;H. Kuhlenbeck;H. Freund
通讯作者：
H. Freund
1:1 电子步进机
影响因子：
1.4
作者：
A. Delong;V. Kolarik
通讯作者：
V. Kolarik
影响因子：
1.4
作者：
YOKOO, K;TANAKA, H;ONO, S
通讯作者：
ONO, S